润玛产品    RunMa's Products

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        品名
        英文名
        分子式
        级别
        AR
        EL
        MOS
        CMOS
        RM-A
        RM-B


        过氧化氢 Hydrogen Peroxide H2O2
        硫酸 Sulfuric Acid H2SO4
        盐酸 Hydrochloric Acid HCl
        硝酸 Nitric Acid HNO3
        发烟硝酸 Nitric Acid Fuming HNO3
        磷酸 Phosphoric Acid H3PO4
        氢氟酸 Hydrofluoric Acid HF
        冰乙酸 Acetic Acid,Glacial CH3COOH
        氢氧化铵 Ammonium Hydroxide NH4·OH
        氟化铵 Ammonium Fluoride,40% NH4F
        氢氧化钾溶液 Potassium Hydroxide Liquid KOH
        氢氧化钠溶液 Sodium Hydroxide Liquid NaOH


        氟化铵腐蚀液(BOE) Amnonium Fluoride Etchants NH4F·HF
        铝腐蚀液(PES) Aluminum Etchants H3PO4·HNO3·CH3COOH
        铬腐蚀液 Chrome Etchant  
        铜腐蚀液 Copper Etchant  
        Ito腐蚀液 Ito Etchant  
        镍银腐蚀液 Nickel And Silver Etchant  
        金腐蚀液 Gold Etchant  
        压点腐蚀液 Press Dot Etchant  
        硅腐蚀液(MAE) Silicon Etchants HNO3·HF·CH3COOH
        混合酸3F Mixed Acid 3F  
        混合酸4F Mixed Acid 4F  

        甲醇 Methanol CH3OH
        乙醇 Ethanol C2H5OH
        异丙醇(点击进入详细信息) IPA CH3CHOHCH3
        丙酮 Acetone (CH3)2CO
        醋酸丁酯 n-Butyl Acetate C6H12O2
        甲苯 Toluene C6H5CH3
        二甲苯 Xylenes C8H10
        三氯乙烯 Trichloroethylene C2HCl3
        1.1.1三氯乙烷 1.1.1—Trichloroethane CH3CCl3
        环已烷 Cyclohexane C6H12




        去毛剂 Depilitant  
        漂洗液    
        剥离液 Peel Off Liquid  
        光刻胶配套试剂    
        正胶显影液 Positive Develop  
        负胶显影液 Negative Develop  
        硅片高纯清洗剂 RMT-6  
        硅酸钠 Sodium silicate  
        松油醇 Terpilenol C10H18O
        根据客户需求,可配制其它特定化学品。

         


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